随着数字信号处理技术和集成电路的发展，平板显示器取得了非常快的发展，等离子显示器（Plasma　Display　Panel）因响应速度快、分辨率高、无辐射、宽视角以及较容易实现大屏幕化而广受关注。在PDP的工业生产过程中，老炼作为在实现显示和显示器加工结束之间极为重要的工序步骤，可以使PDP更易于驱动，同时可以令PDP的各项放电性能趋于稳定。
介质保护膜是PDP中的重要组成部分，由于其与放电气体直接接触，所以对于改善PDP的放电特性、显示性能以及寿命具有重要的作用。因此研究老炼过程对PDP及其介质保护膜的影响对于降低PDP的成本和功耗，改善其性能有着很大的实用意义。
本文采用磁控溅射方法制备了不同Ag含量下的Mg-Ag-O复合介质保护膜，并对其元素组成、微观结构、表面形貌和放电特性进行表征，同时讨论了不同Ag含量对薄膜放电特性的影响。结果表明Ag含量为2.98%时薄膜的XRD图谱中出现MgO(111)衍射峰，同时具有高的粗糙度，高的二次电子发射系数，最低的放电电压，说明较高的表面粗糙度有利于提高薄膜的二次电子发射系数，有利于降低薄膜工作电压。当Ag含量较低时，薄膜粗糙度较低，但是有较高的存储系数，说明表面细化有利于提高薄膜的存储系数。
本文还通过对Mg-Ag-O复合介质保护膜进行不同时间老炼，研究了老炼对不同Ag含量的薄膜结构及放电性能的影响。结果表明老炼使薄膜表面粗糙度变小，但是使薄膜发生了非晶化；老炼过后薄膜的工作电压升高，存储系数变小，但是性能均趋于稳定；Ag含量为3%时的薄膜在老炼前后其电性能都优于Ag含量为0%和30%。分析认为薄膜的非晶化导致了其工作电压的升高，存储系数的降低。