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本发明公开了一种等离子体射流阵列协同机械旋转运动的材料处理装置，包括腔体、射流阵列、支架和载物台。其中，射流阵列产生的多个均匀等离子体射流通过荷电粒子间的相互作用耦合为大面积均匀的低温等离子体；该等离子体发生器利用支架固定于载物台上方，可以实现方向、位置和间距的多维度调节；载物台内集成了速度可调的电动转盘，可实现待处理材料的匀速旋转运动；等离子体的产生及材料处理可根据实际需求在腔体内进行。本发明通过产生等离子体射流阵列，协同电学、光学和机械工程，实现对材料进行大面积、均匀的处理，可以应用于材料表面改性方面的研究、教学和工业生产推广。
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Type： 发明专利
Patent No.： CN201610438344.X
Filing Date： 2016-06-17
Publication Date： 2016-10-19
Pub. No.： CN106034371A
Applicants： 西安交通大学
Legal Status： 在审
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